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[뉴시스] 특허청 '내년부터 바뀌는 국제디자인 출원제도 확인하세요' 관리자 │ 2021-12-28 HIT 566 |
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기사내용 요약 코로나19·불가항력에 따른 기한 미준수 면책 등 규정 보완 [대전=뉴시스] 김양수 기자 = 특허청은 코로나 팬데믹 등 출원제도 이용환경 변화에 따라 기한 미준수 면책 보완 등 사용자 중심으로 헤이그 국제디자인 출원제도가 개정돼 내년 1월 1일부터 시행에 들어간다고 밝혔다. 특허청에 따르면 내년 1월부터 변경돼 시행되는 헤이그 공통규칙에서는 코로나19와 같은 유행병, 자연재해 등 불가항력적 사유로 정해진 기한 내에 WIPO 국제사무국에 서류를 제출하지 못한 경우 관련 증거를 제출하면 구제받을 수 있도록 했다. |
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